一、 事件
在中国国际进口博览会期间接受采访时，荷兰光刻机巨头阿斯麦全球高级副总裁、中国区总裁沈波表示，阿斯麦中国今年业务快速增长，预计中国全年占阿斯麦全球收入的20%以上，对明年在中国的业务也非常乐观。
11月6日，桐城新材料发布《关于光刻胶项目进展的公告》，重点指出(1)公司已完成部分ARF光刻胶型号的开发，首批ARF光刻胶的出货指标可与国际光刻胶厂产品标杆，具有量产能力。目前正处于量产前光刻工艺测试和产品验证阶段，能否验证还存在一定的不确定性。能力可以同时供应国内大多数芯片制造商，可以更好地满足国内先进工艺光刻胶的部分需求。(2)公司生产的EBR溶剂已达到G4级规格，能够满足国内40纳米以下工艺的芯片制造技术需求。预计高纯度G5级EBR验证将在第四季度完成，年产2万吨。
二、简介
光刻机，又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它使用类似的照片打印技术，通过光线曝光将掩膜版本上的精细图形打印在硅片上。光刻机的类型可分为接触式曝光、接近式曝光和投影式曝光。
光刻机的工作原理是通过一系列光源能量和形状控制手段将光束透射到绘制线路图的掩模中，通过物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小，然后映射到硅片上。然后用化学方法显示，得到刻在硅片上的电路图。
一般的光刻工艺应经过硅片表面清洗干燥、底部涂层、旋转涂层涂层、软干燥、对准曝光、后干燥、显影、硬干燥、激光蚀刻等工艺。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此世界上只有少数制造商掌握它。
光刻机品牌众多，根据不同的技术路线可分为以下类别：高端投影光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机，分辨率通常在7纳米到几微米之间，高端光刻机被称为世界上最精密的仪器，世界上有1.2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，制造难度大，世界上只有少数公司能制造。以荷兰ASML、日本Nikon、日本Canon为主的外国品牌。
三、 行业分析
最近，美国联合日本和荷兰对中国芯片实施了新的设备出口控制。目前，美国、日本和荷兰基本上垄断了全球半导体设备。从各国优势来看， 1)美国在薄膜沉积、离子注入和测量领域占据垄断地位。PVDDD美国企业应用材料、CMP、全球离子注射率分别为86%、68%、64%的拉姆研究在刻蚀和ECP中分别占46%、78%，科天在量测领域的市场份额为54%。
2)日本在涂胶显影和清洗设备方面有优势。东京电子涂料市场占89%。、40%的市场份额为迪恩士清洁设备。
3)荷兰光刻机是绝对领先的，原子层沉积处于领先地位。ASML占全球市场份额的96%，ASMIALD设备占全球市场份额的45%。中美科技脱钩迫使半导体设备和零部件本地化加快，本地化率有望超出预期。
政策和资金齐心协力，国产光刻胶蓬勃发展。随着我国半导体产业的发展和制造技术节点的不断缩小，G/I光刻胶增速放缓，KRF和ArF光刻胶市场需求和增速加快。2019年，光刻胶入选《重点新材料首批应用示范指导目录(2019版)》，、国家发改委等部门相继出台文件，为光刻胶技术突破和产业发展提供了有力的政策指导和保障。同时，2022年，为鼓励光刻胶产业发展，突破产业瓶颈，中国出台了多项支持半导体产业发展的政策。据势银（TrendBank）截至2022年8月，调查数据显示，2019-2022年光刻胶企业披露的半导体产业光刻胶项目总投资已达94.13亿元。投资金额从年份开始逐年上升。势银（Trendbank）光刻胶企业投资高峰年预计2022-2023年。
光刻气体是光刻工艺所需的重要材料，预计需求将稳定和复苏。华特气体和凯美特气是中国两家获得ASML认证的光刻气供应商。根据公告，华特气体光刻气已通过ASML和GIGAPHOTON认证。公司对国内8寸以上的集成电路厂商实现了90%以上的客户覆盖率。根据公告，2023年2月，凯美特气光刻气产品通过Cymer公司合格供应商认证，有利于提高其在光刻气领域的认可度和知名度。
在光刻机核心技术领域取得突破，产品直接或间接进入ASML、Nikon、cannon和上海微电子等供应链制造商。如福晶科技、茂莱光学、科益虹源(未上市)。、苏大维格等。
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