1、2025年国产euv生产线试生产最快；
2、由科研院所和国家学术机构转变为由重点商业公司主导、重要央企协调；
3、国内5家重点商业公司获得特权、研发资金支持无上限等强大消息，最终激活了半导体国内替代逻辑。
光刻机行业垄断性强，国内突破是唯一的选择。ASML、Nikon、Canon是全球光刻机行业的三大领导者，占据了绝大多数的市场份额，其中ASM绝对领先于高端浸没式DUV和EUV，Nikon也有少量的浸没式DUV运输，而Canon则专注于中低端领域。
在中国，在“02专项”的支持和产业链公司的共同努力下，国内光刻机产业链不断完善：科益虹源实现了准分子激光光源的运输，火炬光刻机采用匀化器获得了可观的收入，茂莱光学掌握了“光刻机曝光物镜超精密光学元件加工”的核心技术，其精密光学元件已应用于国内光刻机，华卓精科在双工作台上取得了突破。光刻机是当前海外对华制裁的重点，国产化是唯一的选择，迫切需要突破。
以下是a股光刻机上市公司的梳理：
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